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Soohyun Kim, Jungchun Kim, Doyoung Jang, Romain Ritzenthaler, Bertrand Parvais, Jerome Mitard, Hans Mertens, Thomas Chiarella, Naoto Horiguchi and Jae Woo Lee    
The temperature dependent carrier transport characteristics of n-type gate-all-around nanowire field effect transistors (GAA NW-FET) on bulk silicon are experimentally compared to bulk fin field effect transistors (FinFET) over a wide range of temperatur... ver más
Revista: Applied Sciences    Formato: Electrónico

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